、日本的Gigaphoton(光源)、德国蔡司(光学镜头)、美国科磊(电子束检测)等。 国产光刻机的发展借助政策优势,也实现了一定突破,其中最正宗的光刻机生产商是上海微电子、中科院长春光机所、华为三家公司。其中,上海微电子(SMEE)在2016年完成了90nm光刻机出货,目前最先进的设备为SSA600/20步进扫描投影光刻机,并在2017年承担“02专项”浸没光刻机关键技术预研项目并通过了验收,公司当前正推进ArFi DUV光刻机的研发;中科院长春光机所2017年承担“02专项”极紫外光刻关键技术研究通过验证。 在部分光刻机核心系统方面,国内以国科精密、华卓精科为代表的新锐力量也完成了部分项目的论证。目前光刻机曝光系统全球只有蔡司和尼康能够完成国科精密作为国家科技重大专项02专项支持的唯一高端光学技术研发单位,正在承担NA0.82、NA1.35等多种类型高端IC制造投影光刻机曝光光学系统的技术研发及产业化推进工作;华卓精科是上海微电子唯一的光刻机工件台供应商,作为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司,华卓精科成功推出了第一台满足65nm光刻机需求的双工件台样机,打破了ASML公司在工件台上的技术垄断。 国内光刻机产业链相关上市公司 数据来源:爱集微 最近“国产28nm光刻机”传说有望年底交付,又引起了不少人的讨论。具体情况如何,还有待相关方面官宣,我们在此不做讨论。 不得不说的是,光刻机作为卡脖子的领域,确实是大众最关心的领域之一,但不是说我们造出28nm光刻机就高枕无忧了,因为光刻机不是唯一掣肘,其他设备同样需要突破。在光刻机上,即便上海微电子在今年底交付了28nm光刻机,也仅仅只是解决了28nm以上成熟制程不受遏制的问题,美国去年以来封锁的可是14nm以下先进制程,所以即便28nm光刻机被我们攻克,但还不能高枕无忧,毕竟以国内现在保有的存量ASML光刻机,28nm甚至7nm都不是问题,问题是没办法在14nm以下进行大规模商业化。所以对于光刻机,我们不仅要期盼国产28nm光刻机突破,还要期盼国产EUV光刻机实现突破。不过笔者相信,28nm光刻机不是我们的终点,而是起点。 除了光刻机,在其他半导体设备领域,我们与国外还存在一定差距,目前仅中微公司主攻的刻蚀设备到了5nm工艺制程水平,其余还停留在14nm,设备公司还需要共度时艰,加大研发投入去攻关。 国内光刻机产业链相关上市公司 数据来源:各公司公告 而除了设备领域,电子化学品、EDA等等都是有待突破的地方,此前华为表示攻克了14nm以上EDA全流程,更先进的7nm、5nm还有待攻克,电子化学品领域,高端EUV光刻胶被日本垄断,此前日本已经迫于美国淫威开始对高端半导体设备、EUV光刻胶等的出口进行管制,也就是说在极端封锁的环境下,往5nm以下更先进制程迈进,还需要国产EUV光刻机、EUV光刻胶、EDA软件等实现突破,这个当然还需要时间,不是短时间能够解决的,但华为带着5G回来了,同样也带着半导体的希望回来了,至少我们并不会止步不前,我们还在奋力追赶。 本报告仅提供给九方金融研究所的特定客户及其他专业人士,用于市场研究、讨论和交流之目的。 未经九方金融研究所事先书面同意,不得更改或以任何方式传送、复印或派发本报告的材料、内容及其复印本予以任何第三方。如需引用、或经同意刊发,需注明出处为九方金融研究所,且不得对本报告进行有悖于原意的引用、删节和修改。 本报告由研究助理协助资料整理,由投资顾问撰写。本报告的信息均来源于市场公开消息和数据整理,本公司对报告内容(含公开信息)的准确性、完整性、及时性、有效性和适用性等不做任何陈述和保证。本公司已力求报告内容客观、公正,但报告中的观点、结论和建议仅反映撰写者在报告发出当日的设想、见解和分析方法应仅供参考。同时,本公司可发布其他与本报告所载资料不一致及结论有所不同的报告。本报告中的信息或意见不构成交易品种的买卖指令或买卖出价,投资者应自主进行投资决策,据此做出的任何投资决策与本公司或作者无关,自行承担风险,本公司和作者不因此承担任何法律责任。 投资顾问:黄波(登记编号:A0740620120007) 来源：金色财经lg...
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