普达特(00650.HK)宣布进军CVD赛道lg...

普达特科技(00650.HK)在半导体设备领域，继清洗设备之后，又一项半导体晶圆制造流程中的重要工艺项目CVD（化学气相沉积）设备业务按计划开展，初步向该业务投放人民币1.4亿元。按计划，CVD产品的范围包括用于制造12吋芯片的多种先进热CVD设备，预期CVD产品将于2024年进入商业生产阶段。这一工艺的设备目前在国内的国产替代率很低，全球CVD设备市场的技术壁垒高，具有广阔和巨大的市场潜力。薄膜沉积设备占半导体设备总市场份额的18%，于2021年的全球规模超过170亿美元，而CVD设备占薄膜沉积设备总市场份额的66%，于2021年的全球市场规模超过110亿美元。同时该项目在半导体沉积工艺上积累的先进技术能力，会给予太阳能设备研发强大的技术借鉴和提升，对公司太阳能业务保持和突破优势具有巨大意义。

截至2022年10月12日收盘，普达特科技(00650.HK)报收于1.02元，下跌2.86%，换手率0.22%，成交量1700.8万股，成交额1648.66万元。投行对该股的评级以买入为主，近90天内共有1家投行给出买入评级，近90天的目标均价为1.55。海通国际最新一份研报给予普达特科技买入评级，目标价1.55。

机构评级详情见下表：

普达特科技港股市值77.16亿港元，在石油开采Ⅱ行业中排名第2。主要指标见下表：

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