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天合光能申请无铟异质结电池专利,大幅降低制造加工成本

2023-12-30 15:55:29
金融界
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摘要:金融界2023年12月30日消息,据国家知识产权局公告,天合光能股份有限公司申请一项名为“无铟异质结电池及其制备方法“,公开号CN117317069A,申请日期为2023年10月。专利摘要显示,本发明公开了一种无铟异质结电池及其制备方法。制备方法包括如下步骤:在N型硅基底的正面与背面分别制备本征非晶硅层;在正面的本征非晶硅层上制备N型掺杂层;在背面的本征非晶硅层上制备P型掺杂层;在P型掺杂层上依次制备透明导电种子层、透明导电材料层;在N型掺杂层上依次制备透明导电种子层、透明导电材料层;在各个透明导电材料层上分别制备保护层;以及在正面与背面分别制备金属电极,金属电极延伸至相应的透明导电材料层。上述制备方法解决了无铟TCO材料通过磁控溅射成膜后晶化率低、光电特性差,在空气中退火受氧气影响,方阻急剧增大以及其耐候性较差的问题,大幅降低制造加工成本,满足可靠性要求。

金融界2023年12月30日消息,据国家知识产权局公告,天合光能股份有限公司申请一项名为“无铟异质结电池及其制备方法“,公开号CN117317069A,申请日期为2023年10月。

专利摘要显示,本发明公开了一种无铟异质结电池及其制备方法。制备方法包括如下步骤:在N型硅基底的正面与背面分别制备本征非晶硅层;在正面的本征非晶硅层上制备N型掺杂层;在背面的本征非晶硅层上制备P型掺杂层;在P型掺杂层上依次制备透明导电种子层、透明导电材料层;在N型掺杂层上依次制备透明导电种子层、透明导电材料层;在各个透明导电材料层上分别制备保护层;以及在正面与背面分别制备金属电极,金属电极延伸至相应的透明导电材料层。上述制备方法解决了无铟TCO材料通过磁控溅射成膜后晶化率低、光电特性差,在空气中退火受氧气影响,方阻急剧增大以及其耐候性较差的问题,大幅降低制造加工成本,满足可靠性要求。

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