盛美上海申请基板处理设备专利，避免基板表面因兆声波发射装置上积累的电荷放电而产生损伤缺陷lg...

摘要：金融界2023年12月29日消息，据国家知识产权局公告，盛美半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“基板处理设备“，公开号CN117299666A，申请日期为2022年6月。专利摘要显示，本发明揭示了一种基板处理设备，包括工艺腔室、基板托盘、兆声波发射装置和清洗装置，基板托盘设置于工艺腔室内，基板托盘用于承载基板；兆声波发射装置用于对兆声波发射装置和基板之间的化学液传递兆声波能量；清洗装置用于清洗兆声波发射装置，清洗装置包括静电导流组件，静电导流组件设置于清洗装置，静电导流组件用于与兆声波发射装置电性连接，以将兆声波发射装置上的电荷导走。本发明具有避免基板表面因兆声波发射装置上积累的电荷放电而产生损伤缺陷的优点。