三星取得光掩模表膜专利，提升光刻曝光设备效果lg...

摘要：金融界2023年12月20日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“用于光掩模的表膜、包括其的掩模版、和用于光刻的曝光设备“，授权公告号CN108121153B，申请日期为2017年11月。专利摘要显示，提供用于光掩模的表膜、包括其的掩模版、和用于光刻的曝光设备。所述表膜可包括表膜膜片，并且所述表膜膜片可包括纳米晶体石墨烯。所述纳米晶体石墨烯可具有缺陷。所述纳米晶体石墨烯可包括多个纳米级晶粒，并且所述纳米级晶粒可包括具有芳族环结构的二维(2D)碳结构。所述纳米晶体石墨烯的缺陷可包括如下的至少一种：sp。