美国又拿光刻机搞事，国产替代进展如何？lg...

最近，美国又对我们的半导体行业上压力了。根据彭博社放出的风声，美国又撺掇荷兰和日本开会了，美国要求荷兰和日本加大对我国半导体设备出口的限制。荷兰和日本是光刻机的主要出口国，所以很简单，美国又拿光刻机卡我们脖子了。

从18年开始，美国就对我国的半导体行业施加各种限制，但是，总结一下，无外乎两招。一招是设置实体清单，把华为、中兴、中芯国际这些半导体公司加进来，禁止海外企业跟它们做生意，第二招，禁售，禁止芯片、设备对华销售。

然而，就是这两招，“两招鲜，吃遍天”，搞得我们半导体行业“焦头烂额”。这就好比《三体》里面，两颗智子，阻断人类微观世界的进步之路，美国的封锁也严重阻碍了我国半导体技术的进步，同时，这也对我国的半导体国产化提出了非常高的要求。

话说回来，这次透露的制裁又扩大了。荷兰的光刻机巨头阿斯麦已经对华禁售了EUV光刻机，EUV光刻机主要用于制作14nm以下的高端芯片。美国则是一直要求荷兰将禁售扩大到DUV光刻机，而DUV光刻机主要用于生产中低端芯片。这次开会，美国还牵上了日本。2021年，荷兰的阿斯麦和日本的尼康、佳能占据了全球光刻机销售的全部份额。可以想象，一旦实现禁售，我国中低端芯片的生产能力将会受到极大限制，现有的扩产产线将会陷入瘫痪。

目前，国内只有一家上海微电子成功研发了28纳米DUV光刻机，但是，在部分关键零部件上还是依赖进口。

光刻机主要包括光学相关模块和运动相关模块。

光学模块部分，光源主要由美国的Cymer和日本的Gigaphoton提供，上海微电子用到的是日本的光源。

透镜系统则是需要用到高精度的反射镜片，目前的主要供应商是德国光学仪器龙头蔡司，上海微电子使用了国望光学研发的镜头。

运动模块部分，需要用到精密控制系统，阿斯麦、尼康、佳能都自主设计了自己的系统，而且不对外销售。上海微电子自主研发了精密控制系统，同时使用了华卓精科的双工作台。

浸没系统主要配套DUV，上海微电子使用的是启尔机电的浸没系统。

在部分其他环节中，上海微电子还需要用到美国MSK公司提供的零部件。

所以我们可以看到，即使在DUV光刻机上，我们还是在零部件上被卡着脖子。去年上海微电子又被美国加入了实体清单，原材料的进口受到限制，无法生产DUV光刻机。这次荷兰和日本又同意对华禁售DUV光刻机，那么，我们就无法增加DUV光刻机的数量，半导体新增产能也就必须停下来了。至于EUV光刻机，我们依然被死死地卡着脖子。

最后，再借用一位伟人的话，“革命尚未成功，同志仍需努力”。光刻机的国产替代还有很长的路要走。

$阿斯麦(ASML)$ $美国超微公司(AMD)$ $佳能(CAJ)$